魔爪文学

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第1590章 新材料合成法（第2页）

常浩南走到实验室电脑前，看着上面的工艺流程图：

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“启归启，半导体材料的外延生长和金属单原子层的外延生长，环境要求和物理机制差别很大……你肯定也不是照搬的。”

说到这里，他突然觉得有些感慨。

类似的对话，当年在自己和杜义山之间生过无数次。

而如今，身份调转。

“这个倒是。”栗亚波点头，走到电脑旁，熟练地打开了一项分子动力学工程文件，“所以我对衬底和生长材料的界面结合机制做了关键调整……主要是放弃传统的强化学键连接，选择范德华力作为主要的层间相互作用力。”

他指着屏幕上放大的原子结构模型：

“您看，这个镉基的cdooo1衬底是一种严格的二维材料，表面没有悬挂键。也就是说，它不受晶格常数必须严格匹配的限制。”

屏幕上，cdooo1晶面的原子排列清晰可见，表面光滑平整。

栗亚波继续解释，“所以，可以像搭积木一样，把不同性质的材料堆垛上去，最终形成形成类似绳结的稳定结构，而每一层都仍然保持各自的性质。”

常浩南此时正在检查工程文件里面的计算过程，但还是很快理解了对方的思路：

“层内是强化学键保证材料本征性质，层间是较弱的范德华力保证堆垛的灵活性和可分离性……你后续还准备用机械剥离法或者液相剥离法来分离单层材料？”

“没错！”栗亚波见老师完全理解，脸上露出笑容，“而且这种范德华力绳结的设计自由度非常高，理论上我们可以开出无数种组合，应用在各式各样的二维材料上。”

就在这时，实验室的门被推开。

一名助理研究员将刚打印出来的测试报告递了上来。

常浩南接过报告，栗亚波也凑到跟前。

甚至都不用翻页。

第一页上，就是报告的摘要：

·目标材料镓锗合金gageooo1成功在cdooo1衬底上形成。

·薄膜呈现非平面二维形态。薄膜区域具有明显的1x1赝晶结构特征。

·能谱分析显示强烈的金属性特征。同时检测到薄膜内部存在一定应力，建议后续通过退火工艺优化消除。

xmtao1设备在衬底表面检测到了含量约15%25%的三维纳米团簇，所幸这些团簇分布不均，主要集中于特定区域，理论上可通过后期精细切割进行有效分离。

“总体结果还算积极。”常浩南看着报告，难掩赞许，“次尝试就能达到这个效果，已经非常惊喜了。”

同时他也感觉到了几分欣慰——

终于，自己的学生可以在学术界，而不是在教育界对自己造成威胁了。

栗亚波却盯着报告中关于纳米团簇的数据，眉头微锁：“老师，我在模拟计算时，特意提高了反应腔的环境温度参数，就是想抑制这种三维岛状生长，理论上不应该有这么大的比例才对……”

常浩南闻言，立刻坐回主控电脑前，调出栗亚波设定的工艺参数和底层算法模型。、

他刚才正好看到了有关内能的部分：

“亚波，你还是稍微被半导体那边的工艺给影响到了。”

栗亚波露出不解的表情。

“你参考的氮化硼工艺，衬底是热解石墨，所以高温环境才有助于提高表面吸附原子的迁移率，同时抑制成核行为，促进二维扩展。”

常浩南指着参数，解释道：

“但我们现在的衬底是cdooo1，反而是需要低温条件才能形成高质量的光滑薄膜”

“！！！”

栗亚波恍然大悟，脸上露出懊恼又庆幸的神色：“我明白了……当时光想着抑制吸附原子的团聚，忘了衬底本身的性质……”

说着坐到电脑前面，开始着手修改计算参数。

“瑕不掩瑜。”常浩南给出了鼓励的评价，“这次实验已经取得了突破性进展，证明范德华外延在金属二维材料制备上的巨大潜力……下一步就是研究如何将gageooo1进行多层堆迭，实现宏观尺度的负折射透明材料。”

他站起身：

“这项工作，我会亲自负责。”

当常浩南离开合成实验室时，才现窗外已是夜幕低垂。

他本打算直接回家，但转念一想，又觉得不如趁热打铁，给下一阶段工作起个头。

于是，一股强烈的动力驱使他改变方向，朝着电梯间走去。

但就在电梯门打开的那一刻，上午那份耐高温涂层报告突然闪现在了常浩南的脑海当中！

（本章完）

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